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精密拋光墊
PU塗佈拋光墊
主要用於精拋製程，其表面依照塗佈配方與發泡的溫度可區分為精緻型及粗糙型等種類，並依照背底基材可生產不用厚度之拋光墊，可撘配不同的拋光液適合於：光電元件(GaAS, Gap, InP, Sapphire, Si wafer…)、玻璃元件精拋、金屬元件精拋…，主要為精拋光製程中增進平坦度、去除刮傷之重要的製程，並可搭配不同的SBR進行曲面玻璃拋光。
主要用於精拋製程，其表面依照塗佈配方與發泡的溫度可區分為精緻型及粗糙型等種類，並依照背底基材可生產不用厚度之拋光墊，可撘配不同的拋光液適合於：光電元件(GaAS, Gap, InP, Sapphire, Si wafer…)、玻璃元件精拋、金屬元件精拋…，主要為精拋光製程中增進平坦度、去除刮傷之重要的製程，並可搭配不同的SBR進行曲面玻璃拋光。
